\t《二氧化硅光学薄膜材料》系统地归纳、整理和总结了二氧化硅光学薄膜材料的基本特性及其应用。作者通过理论分析和实验工作，重点针对物理气相沉积制备的二氧化硅光学薄膜材料的光学、力学和随机网络微结构特性进行了深入的研究，给出了典型的现代光学精密系统中的光学多层膜元件研究结果。对于高性能和特种光学多层膜的应用，《二氧化硅光学薄膜材料》的研究结果具有重要的参考价值。



\t《二氧化硅光学薄膜材料》可供光学工程、光电信息技术以及薄膜材料物理等相关学科从事光学薄膜技术研究的科研人员、工程技术人员，以及高等院校相关专业的研究生和高年级本科生参考。

  
\t章二氧化硅材料基本特性



\t1.1二氧化硅体材料基本特性



\t1.1.1光学特性



\t1.1.2热力学及其他特性



\t1.1.3微结构和分子结构特性



\t1.2二氧化硅薄膜材料基本特性



\t1.2.1薄膜材料光学特性



\t1.2.2薄膜材料力学与热力学特性



\t1.2.3薄膜微结构和分子结构特性



\t1.2.4薄膜材料其他特性



\t第2章二氧化硅薄膜材料制备技术



\t2.1二氧化硅薄膜材料沉积技术



\t2.1.1真空基础



\t2.1.2热蒸发沉积技术



\t2.1.3离子束溅射沉积技术



\t2.1.4磁控溅射沉积技术



\t2.1.5热氧化技术



\t2.2基片特性及二氧化硅薄膜沉积参数



\t2.2.1基片特性



\t2.2.2二氧化硅沉积参数



\t2.3二氧化硅薄膜后处理技术



\t2.3.1热退火后处理



\t2.3.2热等静压后处理



\t第3章二氧化硅薄膜材料光学特性



\t3.1薄膜材料光学常数的测试与分析



\t3.1.1光学薄膜计算分析



\t3.1.2透反射光谱法



\t3.1.3椭圆偏振光谱反演法



\t3.1.4本书光谱和椭圆偏振参数的获得



\t3.2弱吸收和极薄层的测试和分析



\t3.2.1弱吸收的测试和分析



\t3.2.2极薄层光学常数测试与分析



\t3.3二氧化硅薄膜折射率特性



\t3.3.1IBSSiO2薄膜的折射率特性



\t3.3.2IBSSiO2薄膜折射率计算的对比



\t3.3.3IBSSiO2薄膜折射率的离散性



\t3.3.4不同制备技术的SiO2薄膜折射率差异



\t3.3.5全光谱的SiO2薄膜折射率比较



\t3.4二氧化硅薄膜吸收特性



\t3.4.1薄膜材料吸收的分类研究方法



\t3.4.2薄膜材料可见光弱吸收特性



\t3.4.3紫外区吸收和短波截止特性



\t3.4.4OH根吸收和激光损伤特性



\t第4章二氧化硅薄膜的后处理效应和时效



\t4.1热退火处理效应



\t4.1.1折射率和厚度的演变规律



\t4.1.2可见弱吸收特性的演变规律



\t4.1.3紫外区吸收和短波截止特性



\t4.1.4OH根吸收和激光损伤特性



\t4.2热等静压处理效应



\t……