抛光是表面处理常用的方法之一，其目的是为了消除表面的细微不平，使表面具有镜面光泽，这不但是产品美化的需要，也是保证产品质量、延长使用寿命及发展新品种的重要手段，有时也能起着产品升值的作用。抛光可分为机械抛光、化学抛光和电化学抛光，目前常用的抛光处理材料有抛光膏和抛光液两个大类，抛光膏用于机械抛光，抛光液则用于化学抛光和电化学抛光。抛光不仅增加工件的美观，而且能够改善材料表面的耐腐蚀性、耐磨性及获得特殊性能。在电子设备、精密机械、仪器仪表、光学元件、医疗器械等领域应用广泛。抛光既可作为零件的最终工序，也可用于镀膜前的表面预处理。
为了满足市场的需求，编者在化学工业出版社的组织下编写了这本《抛光剂配方与生产》，书中收集了200余种抛光剂制备实例，详细介绍了产品的原料配比、制备方法、原料配伍、应用和特性，旨在为表面抛光处理工业的发展尽点微薄之力。
本书由李东光主编，参加编写的还有翟怀凤、李桂芝、吴宪民、吴慧芳、蒋永波、邢胜利、李嘉等，由于编者水平有限，错误在所难免，请读者使用过程中发现问题及时指正。