薄膜的制备技术、薄膜物理学以及薄膜的技术应用等，都是正在迅速发展中的科学与技术。有关薄膜形成的机理和薄膜生长动力学、薄膜的某些重要物理性质，还在不断地研究和探索之中；薄膜的制备技术也在不断地发展和完善。因此，肖定全等编著的《薄膜物理与器件》着重介绍薄膜的物理及化学制备基本原理与方法，薄膜的形成、结构与缺陷的基本内容，以及薄膜物理中的主要方面，使薄膜技术的初学者能大体掌握薄膜技术的概貌。

肖定全等编著的《薄膜物理与器件》主要论述了薄膜物理与薄膜器件的基本内容，并概括介绍了在新材料技术领域中有着重要应用的几类主要的薄膜材料。书中比较系统地介绍了薄膜的物理化学制备原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术等；同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体性质、磁学性质、超导性质等；此外，还扼要介绍了几类重要薄膜材料及其性能，分析归纳了相关研究发展动态。

《薄膜物理与器件》可作为材料科学与工程、电子科学与工程、电子材料与元器件、半导体物理与器件、应用物理学等专业的教材或教学参考书，也可供相关科技、企业、公司的管理和技术人员参考。

第一章 真空技术基础

 1.1 真空基础

 1.2 稀薄气体的性质

 1.3 真空的获得

 1.4 真空的测量

 习题与思考题

第二章 薄膜的物理制备工艺学

 2.1 薄膜制备方法概述

 2.2 真空蒸发镀膜

 2.3 溅射镀膜

 2.4 离子束镀膜

 2.5 分子束外延技术

 2.6 脉冲激光沉积技术

 习题与思考题

第三章 薄膜的化学制备工艺学

 3.1 概述

 3.2 化学气相沉积

 3.3 薄膜的化学溶液制备技术

 3.4 薄膜的软溶液制备技术

 3.5 超薄有机薄膜的LB制备技术

 习题与思考题

第四章 薄膜制备中的相关技术

 4.1 基片

 4.2 薄膜厚度的测量与监控

 4.3 薄膜图形制备技术

 4.4 薄膜制备的环境

 习题与思考题

第五章 薄膜的形成与生长

 5.1 凝结过程与表面扩散过程

 5.2 薄膜晶核的形成与生长

 5.3 薄膜的形成与生长

 5.4 薄膜形成过程的计算机模拟

 习题与思考题

第六章 现代薄膜分析方法

 6.1 概述

 6.2 X射线衍射法

 6.3 扫描电子显微镜

 6.4 透射电子显微镜

 6.5 俄歇电子能谱

 6.6 X射线光电子能谱

 6.7 二次离子质谱

 6.8 卢瑟福背散射法

 6.9 原子力显微镜

 习题与思考题

第七章 薄膜的物理性质

 7.1 薄膜的力学性质

 7.2 薄膜的电学性质

 7.3 薄膜的光学性能

 7.4 薄膜的磁学性质

 7.5 薄膜的热学性质

 习题与思考题

第八章 几种重要的功能薄膜材料

 8.1 半导体薄膜

 8.2 超导薄膜

 8.3 铁电薄膜

 8.4 磁性薄膜

 8.5 磁电薄膜

 8.6 光学薄膜

 8.7 金刚石薄膜

 习题与思考题

第九章 薄膜应用

 9.1 半导体薄膜应用

 9.2 光学薄膜应用

 9.3 磁性薄膜应用

 9.4 超硬薄膜应用

 9.5 发光薄膜应用

 9.6 铁电薄膜应用

 9.7 超导薄膜应用

 9.8 LB膜的应用

 习题与思考题

主要词汇汉英索引

参考文献