《流体辅助微纳抛光原理与技术》详细阐述了适用于精密光学元件制造的流体辅助微纳抛光原理与技术，针对于每一种工艺方法进行了全方位的描述，涉及起源与发展、原理、优缺点、具体的加工设备以及相关的工艺。
《流体辅助微纳抛光原理与技术》分为9章，第1章对光学加工进行了综述，其他章节分别介绍了磁介质辅助加工技术、磁流变抛光技术、电流变抛光技术、气射流抛光技术、水射流抛光技术、磁射流抛光技术、浮法抛光技术、化学抛光。

序言
第1章绪论
1.1概述
1.2流体辅助抛光技术的分类
1.3流体辅助抛光技术的发展
第2章磁介质辅助加工
2.1磁场辅助抛光技术
2.2磁性液体抛光技术
2.3磁力研磨技术
参考文献
第3章磁流变抛光
3.1概述
3.2磁学理论基础
3.3抛光系统与模型
3.4磁流变抛光液
3.5工艺研究
3.6小结
参考文献
第4章电流变抛光
4.1概述
4.2电流变液体
4.3电流变抛光液
4.4电流变抛光模型
4.5装置设计与分析
4.6工艺研究
4.7小结
参考文献
第5章气射流抛光
5.1概述
5.2基本原理
5.3加工机理与技术
5.4加工仿真与实验研究
5.5小结
参考文献
第6章水射流抛光
6.1概述
6.2基本原理与特点
6.3论模型
6.4工艺研究
6.5小结
参考文献
第7章磁射流抛光
7.1概述
7.2流体动力学理论基础
7.3液柱保形机理
7.4去除函数模型与特性
7.5工艺研究
7.6加工装置
7.7小结
参考文献
第8章浮法抛光
8.1概述
8.2机理与模型
8.3工艺研究
8.4小结
参考文献
第9章化学抛光
9.1概述
9.2机理与原理
9.3加工设备
9.4小结
参考文献