本课程作为应用物理专业大四本科生的专业物理实验课，是一门专业性和实践性都很强的实践教学课程。《专业物理实验》是在《物理学基础实验》和《近代物理实验》基础上，结合本学校物理专业特色。为物理专业本科生开设的一门基础课程，教学目的和任务是扩大学生的知识面、培养学生的创新能力，使学生能接触比较近代的测试方法和测试手段，掌握多种实验方法，学会运用综合的方法和手段分析问题并解决问题，提高学生的综合素质能力。
开设本课程的目标和任务是使学生熟练掌握半导体材料和器件的制备、基本物理参数以及物理性质的测试原理和表征方法，为半导体材料与器件的开发、设计与研制打下坚定基础；同时课程内容不仅讲述了等离子体物理基本知识，更注重引导学生对等离子体传统技术的了解和对前沿技术的把握。由于是实验课，所以需要学生首先掌握《半导体物理》《半导体器件》和《等离子体物理》的基本知识，再通过本课程培养学生对半导体材料和器件的制备及测试方法的实践能力。

第一章 基础工艺
实验1-1 真空技术
实验1-2 硅片的清洗及氧化
实验1-3 光刻工艺流程实验教学
实验1-4 氧等离子体刻蚀
实验1-5 等离子体增强化学气相沉积
实验1-6 磁控溅射法制备金属薄膜
实验1-7 原子层沉积法制备纳米薄膜的实验原理及工艺流程
第二章 检测测量技术
实验2-1 MOSFET器件特性的测量与分析
实验2-2 椭圆偏振仪测薄膜厚度
实验2-3 紫外可见分光光度计测量亚甲基蓝溶液浓度
实验2-4 傅立叶变换红外光谱法（FTIR）测定硅中杂质氧的含量
实验2-5 等离子体朗缪尔探针诊断技术
附录
实验2-6 等离子体发射光谱诊断技术
附录
实验2-7 质谱法测定氧气放电组成成份及能量实验
实验2-8 半导体二极管的伏安特性及温度特性
实验2-9 ICCD器件的特性研究及应用
实验2-10 四探针法测量相变材料的变温电阻曲线
实验2-11 薄膜厚度和形貌测量
第三章 工艺基础及应用
实验3-1 表面波等离子体放电实验
实验3-2 脉冲放电等离子体特性实验
实验3-3 低气压容性耦合等离子体特性实验
附录
实验3-4 低气压感性耦合等离子体（ICP）特性实验
实验3-5 等离子体晶格
实验3-6 等离子体功能材料制备与光学性能检测
实验3-7 低温等离子体染料废水处理实验
实验3-8 低温等离子体产生O3及其应用的实验探索
参考文献