本书系统介绍了各种现代离子镀膜技术的原理、特点、装备、工艺、发展历程和应用。其主要内容包括概述、真空物理和等离子体物理基础知识、真空蒸发镀膜、辉光放电型离子镀膜、热弧光放电型离子镀膜、阴极电弧离子镀膜、磁控溅射镀膜、带电粒子流在镀膜中的作用、等离子体增强化学气相沉积、等离子体聚合，以及离子镀膜技术在太阳能利用、信息显示薄膜、装饰性薄膜、光学薄膜、硬质涂层、碳基薄膜、热电薄膜等领域和低温离子化学热处理中的应用。本书内容全面、新颖，紧密联系实际，具有很强的系统性、科学性、先进性和实用性。
本书可供表面工程技术人员、相关领域的科研人员使用，也可供相关专业的在校师生参考。

王福贞，教授，北京市有突出贡献专家，享受国务院津贴。现任中国真空学会薄膜委员会顾问委员。1976年开始从事离子镀膜技术研发、教学。1994年北京联合大学退休。先后取得活性反应离子镀膜机、空心阴极离子镀机、矩形平面大弧源离子镀膜机、柱状阴极电弧源、柱状磁控溅射靶、电弧离子渗金属等科研成果和授权多项专利。编著出版了《表面沉积技术》和《气相沉积应用技术》两本技术图书。2014年和2019年先后制作了《离子镀膜技术》和《离子镀膜技术更新版》两部视频教程，并在网易云课堂免费播放。

序1
序2
前言
第1章 概述
1.1 离子镀膜技术的应用领域
1.2 科学技术现代化对薄膜产品的新要求
1.3 镀膜技术的类型
1.3.1 薄膜的初始制备技术
1.3.2 离子镀膜技术
1.4 本书的主要内容
第2章 真空物理基础知识
2.1 真空
2.1.1 真空的定义
2.1.2 真空的形成
2.1.3 真空度的意义
2.2 气体分子运动的基本规律
2.2.1 理想气体分子运动规律
2.2.2 理想气体的压强
2.2.3 气体分子的平均自由程
2.2.4 碰撞截面
2.2.5 分子运动速度
2.3 气体分子和固体表面的相互作用
2.3.1 碰撞
2.3.2 吸附和解吸或脱附
2.3.3 蒸发和升华
2.4 阴极表面的电子发射
2.4.1 固体表面的电子状态
2.4.2 金属的热电子发射
2.4.3 金属的冷场致发射
2.4.4 光电子发射
2.4.5 二次电子发射
参考文献
第3章 等离子体物理基础知识
3.1 引言
3.2 等离子体
3.2.1 等离子体的定义
3.2.2 等离子体的分类
3.2.3 等离子体的获得方法
3.3 气体的激发和电离
3.3.1 带电粒子的运动状态
3.3.2 粒子间碰撞后能量的变化规律
3.3.3 由电子非弹性碰撞产生的激发与电离
3.3.4 第二类非弹性碰撞
3.3.5 附着和离脱
3.3.6 带电粒子的消失——消电离
3.3.7 气体放电中的发光现象
3.4 气体放电
3.4.1 气体放电的过程
3.4.2 气体放电的伏安特性曲线
3.5 辉光放电
3.5.1 辉光放电的特点
……
第4章 真空蒸发镀膜技术
第5章 辉光放电离子镀膜技术
第6章 热弧光放电离子镀膜技术
第7章 阴极电弧离子镀膜技术
第8章 磁控溅射镀膜技术
第9章 带电粒子流在镀膜中的作用
第10章 等离子体增强化学气相沉积技术
第11章 等离子体聚合技术
第12章 离子镀膜在太阳能利用领域的应用
第13章 离子镀膜在信息显示
第14章 离子镀膜在装饰性薄膜领域的应用
第15章 离子镀膜在光学薄膜领域的应用
第16章 离子镀膜在硬质涂层领域的应用
第17章 离子镀膜在碳基薄膜领域的应用
第18章 离子镀膜在热电薄膜领域的应用
第19章 离子镀膜在低温离子化学热处理中的应用