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内容推荐 本书共分为4章,内容包括半导体器件缺陷及失效分析技术概要、硅集成电路(LSI)的失效分析技术、功率器件的缺陷及失效分析技术、化合物半导体发光器件的缺陷及失效分析技术。笔者在书中各处开设了专栏,用以介绍每个领域的某些方面。在第2~4章的末尾各列入了3道例题,这些例题出自日本科学技术联盟主办的“初级可靠性技术者”资格认定考试,题型为5选1,希望大家可以利用这些例题来测试一下自身的水平。 本书的读者包括:半导体器件工艺及器件的相关技术人员,可靠性技术人员,失效分析技术人员,试验、分析、实验的负责人,以及大学生、研究生等。因此,罗列的内容层次从基础介绍到最新研究,覆盖范围较广。 作者简介 上田修,东京大学工学部物理工学博士。1974-2005年,在富士通研究所(股份有限公司)从事半导体中晶格缺陷的分析以及半导体发光器件、电子器件劣化机制阐明的研究。2005-2019年,在金泽工业大学研究生院工学研究科任教授。现为明治大学客座教授。 目录 前言 第1章 半导体器件缺陷及失效分析技术概要 1.1 失效分析的定位 1.2 缺陷分析的定位 1.3 用于缺陷及失效分析的分析工具概要 专栏:NANOTS的成立与更名 第1章参考文献 第2章 硅集成电路(LSI)的失效分析技术 2.1 失效分析的步骤和近8年新开发或普及的技术 2.2 封装部件的失效分析 2.3 芯片部件失效分析过程和主要失效分析技术一览 2.4 芯片部件的无损分析方法 2.5 芯片部件的半破坏性分析 2.6 物理和化学分析方法 专栏:应该如何命名 第2章练习题 第2章缩略语表 第2章参考文献 第3章 功率器件的缺陷及失效分析技术 3.1 功率器件的结构和制造工艺 3.2 由晶圆制造工艺引起的器件缺陷及失效分析技术 专栏:晶圆背面状态对工艺的影响 3.3 由芯片制造工艺引起的器件缺陷及失效分析技术 专栏:碱金属的加速氧化 3.4 由模块制造工艺引起的设备缺陷及失效分析技术 3.5 功率器件的其他分析技术 专栏:增大用于功率器件的晶圆直径 第3章练习题 第3章参考文献 第4章 化合物半导体发光器件的缺陷及失效分析技术 4.1 化合物半导体发光器件的工作原理和结构 4.2 化合物半导体发光器件的可靠性(以半导体激光器为例) 4.3 化合物半导体发光器件的可靠性测试 4.4 化合物半导体发光器件缺陷及失效分析的基本技术 4.5 化合物半导体发光器件缺陷及失效分析流程图 专栏:高速增长的VCSEL市场,可靠性没问题?不! 第4章练习题 第4章缩略语表 第4章参考文献 作者介绍 练习题答案 |