靳晓诗,工学博士,沈阳工业大学副教授,辽宁省很好硕士论文指导教师,主要研究领域包括新型半导体器件物理学、很好纳米集成技术、生物与气体传感技术、薄膜晶体管与LED、LCD显示技术和固态存储技术等。发表SCI检索期刊论文20余篇,申报发明30余项,已获批10余项。
刘溪,工学博士,沈阳工业大学硕士生导师,主要从事很好集成技术研发、人工智能芯片设计等工作。发表SCI检索期刊论文10余篇,申报发明10余项,已获批3项。
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书名 | 纳米级场效应晶体管建模与结构优化研究 |
分类 | 科学技术-工业科技-化学工业 |
作者 | 靳晓诗,刘溪 |
出版社 | 清华大学出版社 |
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简介 | 作者简介 靳晓诗,工学博士,沈阳工业大学副教授,辽宁省很好硕士论文指导教师,主要研究领域包括新型半导体器件物理学、很好纳米集成技术、生物与气体传感技术、薄膜晶体管与LED、LCD显示技术和固态存储技术等。发表SCI检索期刊论文20余篇,申报发明30余项,已获批10余项。 刘溪,工学博士,沈阳工业大学硕士生导师,主要从事很好集成技术研发、人工智能芯片设计等工作。发表SCI检索期刊论文10余篇,申报发明10余项,已获批3项。 目录 章 绪论 1 1.1 CMOS超大规模集成电路技术发展与现状分析 1 1.2 内容概述 12 第2章 纳米级MOSFETs的寄生电容模型 15 2.1 过往亚微米级寄生电容模型回顾 15 2.1.1 概述 15 2.1.2 几种常见的寄生电容模型介绍 18 2.2 考虑源漏接触电极影响的深亚微米寄生电容模型 27 2.2.1 概述 27 2.2.2 栅极侧壁电容 (Cside) 28 2.2.3 栅极顶部电容与总寄生电容 36 2.3 基于精准边界条件的全解析寄生电容模型 41 2.3.1 概况 41 2.3.2 栅极侧壁电容 42 2.3.3 栅极顶部电容与总寄生电容 47 第3章 纳米级金属氧化物半导体场效应晶体管模型 51 3.1 平面单栅极体硅金属氧化物半导体场效应晶体管模型 51 3.1.1 能带理论 51 3.1.2 一个平面金属氧化物半导体电容器的标准模型 57 3.1.3 一个平面单栅极金属氧化物半导体场效应晶体管器件的标准模型 62 3.2 长沟道未掺杂双栅金属氧化物半导体场效应晶体管漏源电流模型 64 3.2.1 概述 64 3.2.2 结构与模型 65 3.2.3 模型验证 69 3.3 长沟道掺杂双栅金属氧化物半导体场效应晶体管漏源电流模型 70 3.3.1 概述 70 3.3.2 结构与模型 71 3.3.3 模型验证 73 3.4 短沟道双栅金属氧化物半导体场效应晶体管亚阈值伏安特性模型 77 3.4.1 概述 77 3.4.2 结构与模型 77 3.4.3 模型验证 81 3.5 非对称短沟道双栅金属氧化物半导体场效应晶体管建模 84 3.5.1 概述 84 3.5.2 结构与模型 85 3.5.3 模型验证 88 3.6 长沟道掺杂围栅金属氧化物半导体场效应晶体管模型 92 3.6.1 概述 92 3.6.2 结构与模型 93 3.6.3 模型验证 95 3.7 短沟道掺杂围栅金属氧化物半导体场效应晶体管模型 99 3.7.1 概述 99 3.7.2 结构与模型 100 3.7.3 模型验证 104 第4章 无结型场效应晶体管建模研究 112 4.1 长沟道双栅极无结晶体管模型 112 4.1.1 概述 112 4.1.2 器件结构和参数说明 112 4.1.3 电场与电势分布模型 113 4.1.4 漏源电流模型 116 4.1.5 模型验证 117 4.2 长沟道围栅极无结晶体管模型 123 4.2.1 概述 123 4.2.2 器件结构和参数说明 124 4.2.3 电场与电势分布模型 124 4.2.4 漏源电流模型 126 4.2.5 模型验证 127 4.3 基于分离变量法的短沟道对称双栅无结晶体管亚阈值模型 131 4.3.1 概述 131 4.3.2 器件结构和参数说明 132 4.3.3 模型建立 132 4.3.4 模型验证 135 4.4 基于抛物线法的短沟道对称双栅极无结晶体管紧凑亚阈值模型 141 4.4.1 概述 141 4.4.2 器件结构和参数说明 142 4.4.3 模型建立 142 4.4.4 模型验证 145 4.5 基于分离变量法的短沟道非对称双栅无结型场效应晶体管模型 151 4.5.1 概述 151 4.5.2 器件结构和参数说明 152 4.5.3 模型建立 153 4.5.4 模型验证 155 4.6 基于抛物线法的短沟道围栅无结晶体管紧凑亚阈值模型 163 4.6.1 概述 163 4.6.2 器件结构和参数说明 164 4.6.3 模型建立 164 4.6.4 模型验证 168 第5章 纳米级无结场效应晶体管的结构优化 180 5.1 沟道边缘处栅极氧化物厚度优化方案 180 5.1.1 双栅无结场效应晶体管优化 180 5.1.2 立体栅无结场效应晶体管优化 192 5.2 不同介电常数栅极氧化物结合使用优化方案 201 5.2.1 双栅无结场效应晶体管优化 201 5.2.2 立体栅无结场效应晶体管优化 205 5.3 短沟道优化——马鞍型折叠栅无结场效应晶体管 210 第6章 结论 220 附录A 共形映射 224 A.1 坐标系的变换 224 A.2 用复变函数法转换 227 附录B Schwarz-Christoffel映射 229 附录C 泊松积分公式 231 参考文献 233 内容推荐 本书是对作者在纳米级场效应晶体管领域科研学术成果的系统性论述,具体内容包括纳米级场效应晶体管寄生电容模型、传统纳米级金属氧化物半导体场效应晶体管机理模型、新兴无结型场效应晶体管机理模型以及无结型场效应晶体管的结构优化。在建模的过程中,充分考虑了器件的具体结构和掺杂浓度等参数对器件工作特性的影响,系统地建立了具有双栅、围栅等多栅结构的纳米级场效应晶体管的机理模型体系,并给出了深纳米级尺度下新兴无结场效应晶体管的优化方案。 本书可供材料、电子、精密仪器等专业科研和工程技术人员参考使用。 |
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