本书是福建工程学院学术文库计划项目的成果之一。本书对由反常电子黏滞性引起的双撕裂模进行了系统全面的研究。首先在剪切平板位形下，用分区求解的方法，得到由反常电子黏滞性引起的线性双撕裂模的色散关系及其近似解析解，给出了模式增长率与电子磁雷诺数的定标关系。然后，推导了直圆柱位形下包括电子粘滞性的磁流体方程组，数值研究了直圆柱位形中由反常电子黏滞性引起的双撕裂模的线性和非线性特征。
本书适用于等离子体物理方向研究生的入门教学和知识拓展。

何志雄，男，1980年4月生，副教授，清华大学博士；福建工程学院数理学院教师。研究方向为托卡马克等离子体物理。近年发表论文20余篇，主持并参与国家自然基金多项。福建省科技厅自然基金1项。

第1章 绪论
1.1 磁约束聚变中的破裂现象和撕裂模不稳定性
1.2 托卡马克等离子体撕裂模不稳定性的物理基础
1.2.1 等离子体平衡及托卡马克磁场位形
1.2.2 托卡马克等离子体的磁流体不稳定性
1.2.3 理想等离子体中磁场的扰动与冻结
1.2.4 等离子体电阻
1.2.5 等离子体中磁场的扩散、重联和磁岛的形成
1.3 双撕裂模不稳定性
1.4 研究方法
1.5 撕裂模研究的发展
1.5.1 电阻撕裂模
1.5.2 电子黏滞撕裂模
1.6 本书研究的主要内容
第2章 撕裂模方程及其解析解
2.1 平板位形下的撕裂模方程
2.2 平板位形撕裂模方程的解析解
2.2.1 分区处理
2.2.2 单独由电子黏滞性引起的双撕裂模方程
2.2.3 外区解
2.2.4 内外区统一求解及色散关系的导出
2.3 直圆柱位形下的撕裂模一般方程的推导
小结
第3章 双撕裂模的线性行为
3.1 数值方法
3.2 数值结果
3.2.1 模式结构
3.2.2 线性增长率定标
3.2.3 双撕裂模的支配模式
3.2.4 模式结构的变化
小结
第4章 双撕裂模的非线性发展
4.1 数值方法
4.1.1 傅里叶展开
4.1.2 Galerkin过程
4.1.3 时间差分过程
4.1.4 边界条件和初始条件
4.2 不同有理面间距的双撕裂模非线性演化
4.2.1 有理面间距较大的双撕裂模非线性演化
4.2.2 有理面间距中等的双撕裂模非线性演化
4.2.3 有理面间距很小的双撕裂模非线性演化
4.3 非线性发展的阶段划分及驱动分析
4.4 双撕裂模非线性发展中等离子体流场的演化
小结
第5章 反常电子黏滞双撕裂模和电阻双撕裂模的比较
5.1 线性结果
5.1.1 分别由反常电子黏滞性和电阻单独作用引起的双撕裂模的比较
5.1.2 同时考虑电阻和反常电子黏滞性的双撕裂模
5.2 非线性发展的比较
5.2.1 耗散大小对双撕裂模非线性发展的影响
5.2.2 同时考虑电阻和反常电子黏滞性的双撕裂模非线性发展
小结
第6章 总结和展望
附录A 符号索引
附录B Galerkin过程中的符号定义
参考文献