凌秀兰著的《真空环境下光学薄膜的激光损伤》试图在总结过去研究工作的基础上阐述光学薄膜在真空和空间环境中激光损伤特性及其损伤机理和改进技术。本书共分为8章。第1章介绍了真空环境下光学薄膜激光损伤研究发展现状及存在的问题，是全书的铺垫。第2章介绍了真空环境下光学薄膜特性表征及损伤测试系统与测试方法，为科学、客观、深入地研究真空环境下光学薄膜的损伤规律及损伤机理奠定坚实的基础。第3章介绍了真空环境下常用光学薄膜的损伤特性和规律；真空环境下光学薄膜抗激光损伤能力的降低有本征因素，也有外在因素。在密闭真空或空间激光系统中由于封装材料的放气而产生的有机污染物分子是真空与空间环境中光学薄膜元件抗激光损伤能力降级的重要原因，因此第4章和第5章分别从内因和外因两个方面阐述了真空环境下光学薄膜的本征损伤机理和有机污染诱导光学薄膜的损伤机理。内容包括真空环境中光学薄膜在激光辐照下光、热、力耦合损伤过程，缺陷诱导损伤过程以及有机污染诱导光学薄膜的激光损伤过程，真空环境下光学薄膜的本征损伤机理以及有机污染诱导光学薄膜激光损伤的机理。第6章和第7章阐述了热退火和激光预处理两种后处理方法对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响，介绍了几种改善真空环境中光学薄膜元件抗激光损伤降级的技术方法。第8章对全书内容做了总结，也提出后续研究工作的建议。

凌秀兰，中北大学信息与通信工程学院副教授，中国科学院上海光学精密机械研究所博士，硕士生导师，主要从事光学薄膜及激光损伤基础科学问题和关键技术研究。在此领域内先后开展了激光薄膜缺陷及其激光损伤研究；研究了真空环境下光学薄膜的激光损伤，从热力损伤过程及缺陷诱导损伤过程分析了电子束沉积的薄膜在真空环境中的损伤过程；研究了有机污染诱导光学薄膜损伤的特性和规律。先后主持和参与了国家自然科学基金项目、国防973项目、国防科工局基础研究项目等。已在Applied Sufface Laser Physics Letters，Applied Optics等高水平学术期刊上以第一作者身份公开发表学术论文20余篇，其中SCI收录16篇，EI收录2篇，申请国家发明专利5项。

1 绪言
1.1 背景与意义
1.2 真空和空间环境下引起光学薄膜损伤的潜在因素
1.2.1 大气一真空效应对光学薄膜性能的影响
1.2.2 空间环境下高能辐射对光学薄膜性能的影响
1.2.3 真空和空间环境下放气污染对光学薄膜性能的影响
1.3 真空和空间环境下光学薄膜损伤研究的发展状况
1.3.1 真空环境下光学薄膜损伤测试装置
1.3.2 真空环境下光学薄膜的损伤特性研究
1.3.3 真空环境下光学薄膜的损伤机理研究
1.4 本章小结
2 真空环境下光学薄膜特性表征及损伤测试系统与测试方法
2.1 光学薄膜的制备及清洗方法
2.1.1 光学薄膜的制备方法
2.1.2 光学基底的加工及镀膜元件表面的清洗技术
2.2 光学薄膜特性的表征方法
2.2.1 光学薄膜光谱性能的表征
2.2.2 光学薄膜微弱吸收的测量
2.2.3 光学薄膜微结构的测试
2.3 真空环境下光学薄膜损伤测试系统
2.3.1 真空室中残余气体组分的测量
2.3.2 样品表面光斑大小的测量
2.4 真空环境下光学薄膜损伤测试方法
2.4.1 真空环境下光学薄膜损伤阈值的测试方法
2.4.2 真空环境下光学薄膜激光损伤的判定方法
2.4.3 真空环境下光学薄膜损伤形貌的分析方法
2.5 本章小结
3 真空环境和特殊气氛下光学薄膜的损伤
3.1 真空环境下电子束沉积制备的光学薄膜单脉冲损伤研究
3.1.1 真空环境下单层SiO2薄膜和单层ZrO2薄膜的损伤研究
3.1.2 真空环境下ZrO2／SiO2增透膜的损伤研究
3.1.3 真空环境下ZrO2／SiO2高反射膜的损伤研究
3.1.4 结论
3.2 真空环境下光学薄膜的多脉冲损伤研究
3.2.1 真空环境下单层HfO2薄膜的多脉冲损伤研究
3.2.2 真空环境下HfO2／SiO2多层膜的多脉冲损伤研究
3.3 环境气氛和气压对真空环境下光学薄膜损伤的影响
3.3.1 真空环境下充入氧气、氮气和氦气后对薄膜损伤阈值的影响
3.3.2 真空环境下充入氧气、氮气和氦气后对光学薄膜损伤形貌的影响
3.3.3 真空环境下充人氧气、氮气和氦气后对光学薄膜损伤深度的影响
3.3.4 结论
3.4 本章小结
4 真空环境下光学薄膜的本征损伤机制
4.1 引言
4.2 气体热传导的影响
4.3 多孔薄膜堆积密度与材料热导率的变化关系
4.4 大气一真空效应对电子束沉积制备的多孔薄膜损伤的影响
4.4.1 热力损伤过程
4.4.2 敏感缺陷诱导的热力损伤过程
4.5 激光辐照诱导再生缺陷的损伤过程
4.6 真空环境下激光辐照诱导等离子体及对材料的离化
4.7 真空环境下激光辐照诱导的非化学计量比缺陷的影响
4.8 本章小结
5 真空环境下有机污染诱导光学薄膜的损伤
5.1 引言
5.2 真空环境下液相有机污染诱导光学薄膜的损伤
5.2.1 样品制备和实验过程
5.2.2 实验结果
5.2.3 分析与讨论
5.2.4 结论
5.3 两种有机污染模式对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响
5.3.1 实验过程
5.3.2 真空环境下液相有机污染对反射膜激光损伤的影响
5.3.3 真空环境下气相有机污染对反射膜激光损伤的影响
5.4 真空环境下长期的有机放气污染对光学薄膜损伤的影响
5.4.1 污染实验和真空环境下激光损伤测试
5.4.2 分析与讨论
5.5 本章小结
6 真空环境下光学薄膜抗损伤能力改善技术——后处理技术
6.1 引言
6.2 退火效应对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响
6.2.1 样品制备和实验过程
6.2.2 退火效应对真空环境下ZrO2，薄膜激光损伤的影响
6.2.3 退火效应对ZrO2薄膜光学特性、结构特性及缺陷特性的影响
6.2.4 结论
6.3 激光预处理对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响
6.3.1 大气环境与真空环境下激光预处理对比实验研究
6.3.2 大气环境下激光预处理对增透膜真空环境下损伤的影响
6.4 本章小结
7 真空环境下光学薄膜抗损伤能力改善方法——薄膜制备方法及沉积参数
7.1 电子束蒸发和离子束溅射制备的光学薄膜损伤特性比较
7.1.1 样品制备和实验过程
7.1.2 激光损伤测试
7.1.3 结论
7.2 氧分压对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响
7.2.1 样品制备及实验过程
7.2.2 氧偏压对薄膜特性的影响
7.2.3 不同氧偏压下ZrO2薄膜的激光诱导损伤
7.2.4 分析与总结
7.3 本章小结
8总结
8.1 主要内容总结
8.2 创新点
8.3 对今后工作的建议
参考文献