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书名 界面插层调控磁阻薄膜材料电输运性能研究
分类 科学技术-工业科技-电子通讯
作者 丁雷
出版社 原子能出版社
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简介
目录
第1章 磁电阻薄膜材料简介
1.1 自旋电子学与磁电阻效应概况
1.2 各向异性磁电阻效应
1.2.1 微观理论
1.2.2 磁化特性
1.2.3 常用各向异性磁电阻材料
1.3 巨磁电阻效应
1.3.1 多层膜巨磁电阻效应和双电流模型
1.3.2 自旋阀巨磁电阻效应
1.4 自旋电子的镜面反射
1.4.1 镜面反射原理及其在纳米氧化层自旋阀中的应用
1.4.2 电子镜面反射对各向异性磁电阻的作用
第2章 NiFe薄膜材料研究现状
2.1 成分与厚度对电输运性能影响研究
2.2 晶粒尺寸与织构对电输运性能影响研究
2.3 不同种子层对电输运性能影响研究
2.4 利用界面插层提高电输运性能研究
第3章 薄膜制备及结构性能表征方法
3.1 薄膜制备
3.1.1 基片清洗过程
3.1.2 薄膜样品制备
3.1.3 元件制备方法
3.1.4 样品的真空退火处理
3.2 薄膜结构性能表征方法
3.2.1 标准四探针法
3.2.2 振动样品磁强计
3.2.3 x射线光电子能谱
3.2.4 x射线衍射
3.2.5 透射电子显微镜
第4章 非晶氧化物界面插层研究
4.1 概论
4.2 SiO2界面插层研究
4.2.1 SiO2界面插层对NiFe薄膜电输运性能影响
4.2.2 SiO2界面插层对NiFe薄膜磁性影响
4.3 Al2O3界面插层研究
4.3.1 Al2O3界面插层对制备态NiFe薄膜结构与性能影响
4.3.2 Al2O3界面插层对退火态NiFe薄膜结构与性能影响
第5章 晶体氧化物界面插层研究
5.1 概论
5.2 MgO晶体氧化物界面插层研究
5.2.1 不同MgO插层位置对NiFe薄膜结构与性能影响
5.2.2 退火对Ta/MgO/NiFe/MgO/Ta薄膜结构与性能影响
5.3 ZnO晶体氧化物界面插层研究
5.3.1 ZnO界面插层对NiFe薄膜结构与电输运性能影响
5.3.2 高温退火对Ta/NiFe/ZnO/Ta薄膜磁性影响
第6章 具有强自旋轨道耦合的贵金属界面插层研究
6.1 概论
6.2 贵金属Au界面插层研究
6.2.1 Au界面插层对NiFe薄膜结构与性能影响
6.2.2 Ta/Au/NiFe/Au/Ta薄膜微结构研究
6.3 贵金属Pt界面插层研究
6.3.1 Pt界面插层对Ta/NiFe/Ta薄膜结构与性能影响
6.3.2 Pt界面插层对NiFeCr/NiFe/Ta薄膜结构与性能影响
第7章 其它类型界面插层材料研究
7.1 概论
7.2 磁性金属氧化物CoFeOx界面插层研究
7.2.1 单层CoFeOx对NiFe薄膜结构号性能影响
7.2.2 双层CoFeOx对NiFe薄膜结构与性能影响
7.3 非磁AlN界面插层研究
7.3.1 AlN界面插层对NiFe薄膜电输运性能影响
7.3.2 AlN界面插层对NiFe薄膜微结构影响
参考文献
内容推荐
磁阻薄膜材料主要指具有磁电阻效应的材料,在各种磁阻材料中,NiFe具有优异的软磁性能,是一种应用广泛的磁性材料。目前国际上研究的焦点集中在NiFe材料超薄情况下如何进一步提高其电输运性能以适应器件发展的需求。
作者丁雷近些年来在高灵敏度NiFe磁阻薄膜材料的制备工艺、综合性能调控、薄膜结构设计思路以及理论研究方面开展了一些研究工作。《界面插层调控磁阻薄膜材料电输运性能研究》重点介绍了各种不同类型的界面插层材料对NiFe磁阻薄膜材料结构及电输运性能的影响。
本书可供从事磁性薄膜材料的研究学者和学生参考使用。
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更新时间:2025/2/22 6:08:32