《光场中的原子分子及激光技术》由汪正民所著，共分成六章。第1、2章介绍原子多光子电离与离化参数的确定，详细讲述了光电子角分布的有关理论与实验，包括任意偏振态激光双光子电离的光电子角分布理论，用一种独特的光电子成像装置收集光离化过程中向全空间发射的光电子，并通过所记录的电子云影像获得原子参数，以及在双色激光场中铷原子两个电离通道间的量子干涉与奇偶宇称波函数相位差的确定。这两章内容不仅对专业人员开展相关的研究课题有着重要参考意义，而且可以帮助刚踏入物理学研究大门的青年科学工作者、研究生和大学生更深入地理解量子物理中某些基本概念。在仔细读完这些章节并理解了书中展示的由不同偏振态激光激发而产生的各种电子云影像形成过程之后，相信读者犹如被带进了微观世界并看到了量子力学所描绘的原子体系的美妙画面，就会自然地理解了波函数、电子云、物质波干涉这些基本而又十分重要的物理概念的真正含义。从这个角度来说，本书又是一本很好的量子物理教学参考书。

《光场中的原子分子及激光技术》由汪正民所著，系统论述了原子多光子电离的相关理论基础和研究方法，详细讨论了用光电子成像装置测量光电子角分布来研究原子光电离的特征，重点讲述了如何在实验上获得电子云影像并由此确定原子光离化参数以及研究奇偶宇称跃迁过程的量子干涉。本书还以相当的篇幅介绍了原子激光光谱和分子红外多光子离解研究的某些专题，详细讨论了无多普勒展宽高分辨激光光谱学的基本原理与研究方法。光学与激光技术方面的内容包括激光测距、风洞流场全息干涉测量以及法布里一珀罗干涉仪(标准具)在光波长与光谱线宽测量、激光纵模选择等方面的原理及应用。最后一章介绍在光学层析成像领域的最新研究成果。并详细阐述了基于激光二维扫描系统和ccD照相机的非接触光学层析成像实验装置及其在光学漫射层析成像和光学荧光层析成像中的应用。

《光场中的原子分子及激光技术》读者范围包括从事原子分子物理、激光光学、光物理、光化学和光学层析成像研究的广大科技工作者，以及相关专业的大学教师、研究生与大学生。

序

前言

第1章 原子多光子电离

第2章 双通道光电离及量子干涉测量

第3章 激光光谱学的几个专题

第4章 分子的红外多光子离解

第5章 光学与激光技术

第6章 非接触光学层析成像

附录

主要名词术语英汉对照表