吕反修主编的《金刚石膜制备与应用（上）》的宗旨是试图提供一部基本上能够“全面、准确、深入”反映国内外CVD金刚石膜及其相关材料制备、表征与应用研究现状和发展趋势的参考书籍。借以满足国内CVD金刚石膜和相关材料研究人员、大专院校师生、研究院所及应用部门和企业界人士的需求。为此本书邀请了国内在此领域的主要研究单位的50余名老、中、青三代专家学者参与本书的撰写，以尽可能达到“全面、准确、深入”的目标。
本书内容以晶态金刚石膜为主，包括微米金刚石膜（MCD）、纳米金刚石膜（NCD）、超纳米金刚石膜（UNCD）和CVD金刚石单晶（SCD）。
本书分六篇，共29章。第一篇，金刚石膜的制备；第二篇，金刚石膜组织结构和性能表征；第三篇，金刚石膜沉积理论；第四篇，金刚石膜的应用；第五篇，纳米金刚石膜制备与应用；第六篇，金刚石相关材料。