缩略语
PartB 熔体生长晶体技术
7.磷化铟：用稳定的磁场生长晶体及缺陷控制
7.1 历史综述
7.2 磁场下液体封盖生长法
7.3 熔体的磁场接触面
7.4 位错密度
7.5 磁流量对杂质隔离的影响
7.6 InP:Fe的光学特征
7.7 总结
参考文献
8.半导体直拉硅单晶和太阳能电池应用
8.1 激光扫描光散射技术生长硅单晶和太阳能电池应用
8.2 直拉硅单晶的晶体缺陷的控制
8.3 太阳能电池应用的多晶硅的生长和特征
8.4 总结
参考文献
9.氧化物光折变单晶的直拉生长法
9.1 背景
9.2 晶体生长
9.3 直拉生长系统的设计和发展
9.4 铌酸锂晶体的生长及其特性
9.5 其他氧化物光折变晶体
9.6 软铋矿晶体的生长及其特性
9.7 结论
参考文献
10.三元化合物Ⅲ-V族半导体体材料晶体生长
10.1 Ⅲ-V族三元化合物半导体
10.2 三元化合物衬底的需求
10.3 器件级三元化合物衬底标准
10.4 布里兹曼晶体生长技术介绍
10.5 Ⅲ-V族的二元化合物晶体生长技术综述
10.6 三元化合物相平衡
10.7 三元化合物半导体合金偏析
10.8 三元化合物晶体裂纹的形成
10.9 单晶三元化合物籽晶生产工艺
10.10 均质合金生长的溶质配备过程
10.11 熔体-固体界面形状的作用
10.12 结论
参考文献
11.用于红外线探测器的锑基窄禁带Ⅲ-V族半导体晶体的生长与特性
11.1 锑基半导体的重要性
11.2 相图
11.3 晶体结构和成键
11.4 材料合成和提纯
11.5 体材料InSb的生长
11.6 InSb、InAsxSbl-x.InBixSbl-x的结构特性
11.7 InSb、InAsxSb1_x.InBixSb1_x的物理性质
11.8 应用
11.9 结语与展望
参考文献
12.光学浮区技术用于氧化物晶体生长
12.1 历史
12.2 光学浮区技术——氧化物的应用
12.3 光学浮区及溶区移动晶体生长技术
12.4 浮区技术的优势和局限
12.5 光学浮区炉
12.6 OFZT的陶瓷和晶棒生长的实验细节
12.7 同成分和不同成分熔融氧化物的稳定生长
12.8 结构过冷和结晶前的稳定性
12.9 晶体生长的终止和冷却
12.10 0FZ技术的晶体生长特点
12.11 晶体缺陷测定——实验方法
12.12 0FZ和TSFZ方法选定氧化物单晶生长的具体条件
12．13 结论
参考文献
13．激光加热基座生长氧化物纤维
13．1 光纤拉丝研究
13．2 激光加热基座生长技术
13．3 原理
13．4 纤维生长方面的问题
13．5 结论
参考文献
14．采用壳融技术合成高熔点材料
14．1 概述
14．2 冷坩埚中单晶生长技术
14．3 基于二氧化锆的单晶生长
14．4 冷坩埚中壳融法玻璃的合成
14．5 结论
参考文献
15．激光基质氟化物和氧化物品体生长
15．1 熔融激光氟化物和氧化物晶体生长
15．2 激光晶体缺陷．
15．3 晶体生长技术特征
参考文献
16．晶体生长的成型
16．1 定义和讨论的范围：用CST法制备SCG
16．2 DSC——用CST法制备SCG的基础
16．3 用CZT法制备SA和SCG
16．4 用VT法制备SA和SCG
16．5 用FZT法制备SA和SCG
16．6 TPS毛细管形成
16．7 TPS的蓝宝石生长
16．8 TPS的硅生长
16．9 TPS的金属生长
16．10 TPS的特性
参考文献