《光稳定剂及其应用技术》论述了国内外光稳定剂工业现状、差距和发展前景，着重叙述了光稳定剂应用和配方设计原理，列举了较多应用配方实例，其中包括光稳定剂国内外最新应用研究动态和成果；同时介绍了光屏蔽剂，紫外线吸收剂，猝灭剂和受阻胺光稳定剂的重要品种物化数据、合成工艺、质量指标等，有些是国内尚未工业化的品种。该书试图对高分子材料的光降解理论、光稳定化原理和途径，作出深入浅出和简明易懂的叙述，努力兼顾光稳定剂的相关理论和实践，而刻意偏重于实用性，前瞻性和可读性。

1 高分子材料的光老化及稳定化机理

 1.1 光老化和光稳定剂

 1.2 光化学反应和高分子材料的光降解

 1.3 高分子材料光氧化过程

 1.4 高分子材料光稳定化机理和途径

 1.5 高分子材料光稳定剂的协同效应

2 国外光稳定剂工业现状与发展

 2.1 历史沿革和现况

 2.2 北美光稳定剂工业现状

 2.3 西欧光稳定剂工业现状

 2.4 日本光稳定剂工业现状

3 国内光稳定剂工业现状与发展

 3.1 历史沿革和现况

 3.2 国内光稳定剂应用概况

 3.3 国内光稳定剂发展预测

4 光稳定剂的基本性能与分类

 4.1 光稳定剂应具备的基本性能

 4.2 光稳定剂的分类

5 紫外线屏蔽剂

 5.1 炭黑

 5.2 钛白粉

6 紫外线吸收剂

 6.1 水杨酸酯类紫外线吸收剂

 6.2 羟基二苯甲酮类紫外线吸收剂

 6.3 羟基苯并三唑类紫外线吸收剂

 6.4 羟苯基三嗪类紫外线吸收剂

7 猝灭剂

 7.1 光稳定剂NBC

 7.2 光稳定剂1084

 7.3 光稳定剂2002

 7.4 小结

8 受阻胺光稳定剂(HALS)

 8.1 GW-480(GW-770)

 8.2 GW-540

 8.3 GW-622

 8.4 GW-944

 8.5 GW-3346

 8.6 Goodrite UV－3034及受阻哌嗪酮类HALS

 8.7 HALS-362

 8.8 HALS在涂料中的应用

参考文献